Oberflächenphysik

Klappentext
Quelle: Wikipedia. Seiten: 342. Nicht dargestellt. Kapitel: Elektronenmikroskop, Oberflächenspannung, Rastertunnelmikroskop, Rasterkraftmikroskop, Adsorption, Adhäsion, Photoelektronenspektroskopie, Inverse Photoemissionsspektroskopie, Oberflächenchemie, Sputtern, Rauheit, Kapillarität, Elektronenbeugung, Physikalische Gasphasenabscheidung, Auger-Elektronen-Spektroskopie, Oberflächenrekonstruktion, Gitterführungseffekt, Sorptionsisotherme, Helium-Atom-Streuung, Röntgen-Nahkanten-Absorptions-Spektroskopie, Low Energy Electron Diffraction, EXAFS, Überstruktur, Tastschnittverfahren, Molekularstrahlepitaxie, Oberflächenenergie, Ionenstrahlgestützte Deposition, Grenzflächenspannung, Sekundärionen-Massenspektrometrie, Benetzung, Kapillaritron, Ablation, Temperatur-programmierte Desorption, Rutherford Backscattering Spectrometry, Wulff-Konstruktion, Laserstrahlverdampfen, Feldionenmikroskop, Oberflächenrelaxation, Rastertunnelspektroskopie, Physisorption, Penetrometer, Niederenergetisches Elektronenmikroskop, BET-Messung, Young-Laplace-Gleichung, Elektrobenetzung, Langmuir-Blodgett-Schicht, Kapillarwelle, Elektronenstrahlmikroanalyse, Monozeit, Strippung, Lichtbogenverdampfen, Kontaktwinkel, Stufenkorrelationsfunktion, Chemisorption, Niederenergetische Ionenstreuspektroskopie, Ionenplattieren, Ionenquelle, Sekundäremission, RHEED, Plateau-Rayleigh-Instabilität, Schichtwachstum, Oberflächensensitive Röntgenbeugung, Sekundär-Neutralteilchen-Massenspektrometrie, Tolansky-Verfahren, Elektronenstrahlverdampfer, Vakuumniveau, Substrat, Oberflächengüte, Rugotest, Elektronenholographie, Korrugation, Youngsche Gleichung, Monolage, Meniskus, Metastable Impact Electron Spectroscopy, ZEKE-Spektroskopie, Haftkoeffizient, Tribophysik, Stalagmometer-Methode, Bindungsplatz, Oberflächenkrümmung, Adatom, Low Energy Ion Scattering, Magnetronzerstäubung. Auszug: Die Photoelektronenspektroskopie (PES) oder Photoemissionsspektroskopie beruht auf dem äußeren Photoeffekt, bei dem Photoelektronen durch elektromagnetische Strahlung aus einem Festkörper gelöst werden. In einem vereinfachten Modell verläuft der Prozess der Photoemission in drei Schritten. Zunächst erfolgt die Anregung des Elektrons durch das einfallende Photon, danach der Transport des angeregten Elektrons zur Oberfläche und als dritter Schritt der Austritt des Photoelektrons. Die Austrittsrichtung und die kinetische Energie dieser Elektronen erlaubt Rückschlüsse auf die chemische Zusammensetzung und die elektronische Beschaffenheit des untersuchten Festkörpers. In der Festkörperphysik und in benachbarten Gebieten wie der Oberflächenphysik, der Oberflächenchemie und der Werkstoffforschung spielt die Photoelektronenspektroskopie eine zentrale Rolle bei der Untersuchung besetzter elektronischer Zustände. Die apparative Weiterentwicklung seit dem Jahr 2000 erschloss der Photoelektronenspektroskopie neue Felder der Grundlagenforschung. Die Photoelektronenspektroskopie unterteilt sich in die Bereiche der Ultraviolett-Photoelektronenspektroskopie (UPS, engl. ), der Röntgenphotoelektronenspektroskopie (XPS, engl. ; auch ESCA, engl. ) und der winkelaufgelösten Photoelektronspektroskopie (ARPES, engl. ). Die Ultraviolett-Photoelektronenspektroskopie trifft vorwiegend Aussagen über chemische Verbindungen und elektronische Eigenschaften eines Materials. Die Röntgenphotoelektronenspektroskopie liefert Informationen über die Elementzusammensetzung der Oberfläche und über den chemischen Bindungszustand dieser Elemente. Die Informationstiefe entspricht der Ausdringtiefe der ungestreuten bzw. elastischgestreuten Elektronen und beträgt in der Regel bis zu drei Nanometer. Mit winkelaufgelöster Photoelektronspektroskopie wird die elektronische Struktur eines Festkörpers untersucht. Diese Messmethode eignet sich zum Vergleich der theoretisch gerechneten mit dem realen Verl